GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備

產(chǎn)品型號：

簡要描述：GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備產(chǎn)能可大于40片每小時，適合DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領域的量產(chǎn)。

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GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備主要功能

● 全自動150/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線

●CLIV技術，確保壓印結構精度與結構填充完整性

●Cassette to cassette自動上下片，光學巡邊預對位

●設備內自動復制柔性復合工作模具，同時支持自動更換工作模具，適合連續(xù)生產(chǎn)

●自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中自動進行，以保證壓印質量

●標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料

●產(chǎn)能可大于40片每小時，適合DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領域的量產(chǎn)

●隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結構等工藝流程，幫助客戶零門檻達到國際的納米壓印水平

兼容基底尺寸	GL150 CLIV：2inch、3inch、100mm、150mm GL300 CLIV：200mm、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
上下片方式	Cassette to cassette全自動上下片
晶圓預對位	光學巡邊預對位
納米壓印技術	CLIV技術，適合高精度、高深寬比納米結構壓印
壓印精度	優(yōu)于10納米*
結構深寬比	優(yōu)于10比1*
殘余層控制	可小于10nm*
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光強>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配）
設備內部環(huán)境控制	標配，外部環(huán)境Class 100，內部環(huán)境可達Class 10*
自動壓印	支持
自動脫模	支持
自動工作模具復制	支持
自動工作模具更換	支持
模具基底對位功能	自動對位（選配）
產(chǎn)能	可大于40片每小時*

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